[提案名]

真空・薄膜・荷電粒子に
関するコンポーネント・
装置の特注品開発

半導体薄膜から加速器に
わたり、超高真空技術を
ベースにお手伝いします。

提案する工法・構造・製品など

［提案の狙い］

■コスト低減
□小型・軽量化
□短納期化
■品質・性能向上
□安全・環境対策
■その他（研究開発）

［開発深度］

□アイデア段階
□試作・実験段階
□開発完了段階
□製品化完了段階

この技術を展開する生産拠点＊予定を含む

●国内

セールスポイント

●Biemtronは、研究者・設計者の夢の実現をサポートします。研究開発装置は研究の数だけ必要とされます。弊社は、その研究目的にかなった研究開発装置を研究者・設計者にとってONLY　ONEを目指して提案し、試作試験を経て制作・納品をしております。

応用できる分野・提案用途

①薄膜　　②ナノテクノロジー　　③表面界面　　④構造分析　　⑤脱離ガス分析　　⑥ビーム照射　　⑦真空メカトロニクス

詳細主要設備・わが社の『nextX』・経営理念など

①超高真空排気装置　　②薄膜作製装置　　③真空炉　　
④質量分析器　　⑤Heリークディテクター

株式会社ビームトロン

［主要取引先］

つくば学園都市、国公立研究所他

［主要製品］

真空蒸着装置

［主要設備］

真空関連装置

［担当者名］

河村

［担当者メール］

kawamura[atm]biemtron.com

［担当者電話番号］

029-240-6005

［本社所在地］

茨城県東茨城郡城里町上青山298-1

［従業員数］

8人

［補助金または委託費の交付実績］

有り

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メールアドレス：monozukuri@joyobank.co.jp